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光学玻璃清洗对象的主要区别

作者:admin 发布日期: 2019-03-18 二维码分享
      随着光学玻璃加工业的发展,清洗工艺是其生产过程中不可或缺的重要组成部分,贯穿整个生产过程。光学玻璃基板通常需要切削液,边缘抛光油,抛光液,抛光粉等辅助操作,如切削材料 - 数控 - 清洁 - 抛光 - 增韧 - 清洁 - 丝印 - 清洁 - 涂层 - 清洁 - 包装等等。

目前,光学玻璃加工和清洁的对象和污垢一般是:
1、数控加工后清洗的污垢主要是切削液和指纹。
2、抛光和清扫后,抛光粉和指纹是主要的污垢。
3、硝酸钾和灰尘是钢铁清洗后的主要污染物。
4丝网印刷后清洁指纹,灰尘,吸盘,白点,墨点等,镜面银和墨水应无害。

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